• 鈦靶材在真空鍍膜中的應用

    時(shí)間:2020-07-30 00:00:19 | 來(lái)源:宏遠金屬

    新型的濺鍍設備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動(dòng)以加速靶材周?chē)臍鍤怆x子化,造成靶與氬氣離子間的撞擊機率增加,提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍,而不導電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍,基本的原理是在真空中利用輝光放電(glow discharge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面,電漿中的陽(yáng)離子會(huì )加速沖向作為被濺鍍材的負電極表面,這個(gè)沖擊將使靶材的物質(zhì)飛出而沉積在基板上形成薄膜。


    專(zhuān)業(yè)的鈦靶材生產(chǎn)制造廠(chǎng)家——寶雞市宏遠金屬和大家來(lái)聊一下鈦靶材在真空鍍膜中的應用



    鈦靶材



    一般來(lái)說(shuō),利用濺射進(jìn)行鍍膜有幾個(gè)特點(diǎn):


    (1)金屬、合金或絕緣物均可做成薄膜材料。


    (2)在適當的設定條件下可將多元復雜的靶材制作出同一組成的薄膜。


    (3)利用放電氣氛中加入氧或其它的活性氣體,可以制作靶材物質(zhì)與氣體分子的混合物或化合物。


    (4)靶材輸入電流及濺射時(shí)間可以控制,容易得到高精度的膜厚。


    (5)較其它制程利于生產(chǎn)大面積的均一薄膜。


    (6)濺射粒子幾不受重力影響,靶材與基板位置可自由安排。


    (7)基板與膜的附著(zhù)強度是一般蒸鍍膜的10倍以上,且由于濺射粒子帶有高能量,在成膜面會(huì )繼續表面擴散而得到硬且致密的薄膜,同時(shí)此高能量使基板只要較低的溫度即可得到結晶膜。


    (8)薄膜形成初期成核密度高,可生產(chǎn)10nm以下的極薄連續膜。


    (9)靶材的壽命長(cháng),可長(cháng)時(shí)間自動(dòng)化連續生產(chǎn)。


    (10)靶材可制作成各種形狀,配合機臺的特殊設計做更好的控制及最有效率。






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